前一阵子，半导体行业的一个重大消息就是ASML向英特尔出货了[敏感词]台 NA值为0.55的EUV光刻机。当时这也多少在圈子里掀起一些波澜，但我当时忙于其它事情，一直没有顾上去整理相关数据

最近两天在准备发布公众号新数据的时候，正考虑还能发啥，便想起了这个茬，于是便打开了ASML的官网...

事实上，ASML在最近一段时间里发布的新机器还不止这一款。在浸入式ArF光刻机领域，ASML也推出了产能更高（WPH 330）的1980Fi.所以我也一并收罗进表格里

顺便说一下，对于[敏感词]的两个型号的EUV光刻机，ASML没有在官网上公布具体套刻精度数据，所以这个表格里我暂时只能先空白着了。希望大家理解。不过按照其官网上的说法，[敏感词]型号的3800E设备的套刻精度（Overlay）相对之前的旧型号是有较大幅度提高的，而5000型号则没有具体提及，我个人估计应该和3800E差不多
以下表格数据全部来自ASML公司官网公布数据。如果又差异，因该是我个人手动摘录时的错误，请大家原谅。

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