近日，国内光刻机产业传来了重磅消息，我们企业生产的光刻机进入到客户的生产工厂了，这是半导体领域具有代表性意义的一件大事。

据半导体芯情了解到，近日，国产光刻机企业传来了一则新闻，上海[敏感词]台光刻机已成功运抵。

据悉，中企光刻设备成功进入中企昆山同兴达是一家刚刚成立一年多的企业，隶属深圳同兴达集团。深圳同兴达科技有限公司主要从事液晶显示模块、液晶显示模块、照相机模块的研发、设计、生产、销售，在驱动 IC应用上已有数年的经验，是国内液晶显示模块的行业领导者。

昆山和兴达在公司的新业务领域拓展，主要从事半导体/晶片的高端封装测试。该工厂是一座先进的半导体封装工程，预计三月份完成设备的试生产和试生产，五月正式投入生产。

为此，昆山公司向兴达公司采购了两部上海微电子光刻机，售价1800万元。这是一台金凸块封测光刻机，比起铜和锡凸块，金凸块的凸块更有优势。

该项目于明年八月投产后，可实现月产量20000片的全流程金凸块，产量位居国内前列。

最重要的是，这台机器是一台封测版的光刻机。光刻机按照不同的应用领域，可以分为前道光刻光刻机和后道光刻机。

封测光刻机与普通的光刻机不同，后道光刻的精度要比前道光刻要低得多，所以封测光刻机的制作要简单得多，上海微电子在封测光刻技术上是世界上[敏感词]的。

一、关于上海微电子：上海微电子封装光刻机占据了80%的国内市场，占据了全球40%的市场。

上海微电子在十一月也发布了[敏感词]台高精度的2.5 D/3D封装的光刻机。在芯片设计、制造、测试三个方面，封测技术是目前国内规模[敏感词]的一个。所以，国内的封测技术，已经走在了世界的前列。

（图源上海微电子）

近几年，关于光刻领域的好消息就一直在持续着。华为公布了光刻机技术的相关专利，北京国望公司光刻曝光系统的研究与量产已经取得了一定的进展，并已开始大规模生产。

据悉，上海微电子是国内[敏感词]的光刻机设备供应商，也是国内光刻机的总负责人。

光刻机分为前道光刻机和后道光刻机，上海微电子主要集中在后道光刻机领域。

据了解，前道光刻机主要参与芯片制造流程，运用光刻机的高精度分辨率将芯片图案曝光在晶圆表面，原理和照相机类似。但曝光流程和工艺非常复杂，涉及到全球[敏感词]科技技术。后道光刻机主要应用于封装，测试流程，用于提高芯片后道制造良率，推进芯片落地。

前道和后道光刻机都很重要，上海微电子在2022年2月份交付了国内首台2.5D/3D封装光刻机给客户，具有高分辨率，超大曝光视场等特点。这一次，中企再传好消息。

据半导体芯情了解到，上海微电子成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发，生产销售与服务，IC制造与先进封装，MEMS ，TSV/3D，TFT -OLED等制造领域。

目前，上海微电子官方公布的信息是它们掌握了90nm前道光刻机的量产能力。不过上海微电子更多的市场份额集中在后道封装领域。

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二、光刻机用在哪？全球有哪些公司？

光刻机很重要，通常情况，光刻机主要用途来自以下场景：

（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。

（2）工厂用于做空空导弹[敏感词]、发光二极管、传感器、手机芯片、霍尔元件

A、发光二极管：用于在十字路口红绿灯、公交车、汽车灯用在每到一站的显示。

B、传感器：用于高铁到站传输信号准确定位。

C、手机芯片：用在手机卡上，还有手机显示屏面。

D、霍尔元件：用于冰箱开灯亮、关灯熄灭。

E、卫星：卫星上面用于卫星角度的调整。

光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

在全球范围，光刻机品牌主要有ASML，尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备，SUSS，ABM, Inc.

到目前为止，只有三个国家的四家公司可以生产出用于芯片的前道光刻机。荷兰 ASML在中高端光刻机上几乎是垄断的，而日本尼康，则是可以制造出中端 DUV光刻机，但其产能并不大。

日本佳能公司主要生产的是中低端的光刻机，而上海的微电子公司，目前也只有90 nm的生产水平，还没有出口。

ASML公司可以独做 EUV光刻机， DUV的市场占有率也很高，但他们的产品，并不是他们自己的。因为美国一直在限制我们的晶片开发，所以才会对 EUV进行限制，现在更是对 DUV进行了限制。

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